Perpustakaan Polman Bandung

  • Beranda
  • Informasi
  • Berita
  • Bantuan
  • Pustakawan
  • Area Anggota
  • Pilih Bahasa :
    Bahasa Arab Bahasa Bengal Bahasa Brazil Portugis Bahasa Inggris Bahasa Spanyol Bahasa Jerman Bahasa Indonesia Bahasa Jepang Bahasa Melayu Bahasa Persia Bahasa Rusia Bahasa Thailand Bahasa Turki Bahasa Urdu

Pencarian berdasarkan :

SEMUA Pengarang Subjek ISBN/ISSN Pencarian Spesifik

Pencarian terakhir:

{{tmpObj[k].text}}
Image of Uji Fungsi Mesin Metal Thermal  Evaporator Physical Vapour Deposition (PVD) Untuk Efektifitas Lapisan Film Tipis Alumunium (AI) Pada Substrat Kaca
Penanda Bagikan

Computer File

Uji Fungsi Mesin Metal Thermal Evaporator Physical Vapour Deposition (PVD) Untuk Efektifitas Lapisan Film Tipis Alumunium (AI) Pada Substrat Kaca

Zidane Ismail - Nama Orang; Otto Purnawarman - Nama Orang; Dhion Khairul Nugraha - Nama Orang;

Lapisan film tipis banyak digunakan untuk berbagai keperluan seperti
meningkatkan kinerja benda dengan memberikan sifat-sifat baru pada
permukaannya. Salah satu material yang dapat digunakan sebagai bahan pelapisan
adalah aluminium. Politeknik Manufaktur Bandung bekerja sama dengan Institut
Teknologi Bandung mengembangkan teknologi mesin metal thermal evaporator
melalui tugas akhir ini. Salah satu faktor penting dari kualitas lapisan film tipis
logam yang baik adalah kinerja mesin metal evaporator itu sendiri, termasuk
kemampuan alat dalam menghasilkan uap logam dari aluminium dan tembaga pada
substrat kaca. Untuk mengetahui keberhasilan proses pengendapan atau deposisi
bahan pelapis pada material substrat, perlu dilakukan pengujian pada mesin metal
evaporator yang dibuat, kemudian akan dilakukan karakterisasi morfologi dan
ketebalan lapisan atau coating menggunakan scanning electron microscope.
Ukuran butiran grain lapisan film tipis aluminium yang terbentuk masih berukuran
mikro dan bervariasi mulai dari 293 nm hingga 780 nm, sehingga ukuran butiran
grain pada lapisan film tipis yang beragam dengan morfologi yang berbeda-beda.
Analisis dengan pendekatan, yaitu Desain Eksperimen menggunakan metode
Taguchi, digunakan untuk merancang dan menganalisis suatu eksperimen. Hasil
lapisan film tipis belum konsisten meskipun menggunakan parameter pengujian
yang sama, hal ini disebabkan oleh sistem pemanas yang hanya mampu
memanaskan dengan rentang arus 40-50 Ampere pada saat kondisi vakum.
Kata Kunci: Metal Evaporation, Lapisan Film Tipis Aluminium, Nanomaterial,
Teknologi Pelapisan Material, PVD


Ketersediaan
#
Google Drive CD-2240239.1
CD-2240239.1
Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan
Informasi Detail
Judul Seri
-
No. Panggil
CD-2240239.1
Penerbit
Bandung : Polman., 2024
Deskripsi Fisik
-
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
NONE
Tipe Isi
-
Tipe Media
-
Tipe Pembawa
-
Edisi
D4 Prodi Teknologi Rekayasa Manufaktur 2024
Subjek
-
Info Detail Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab
-
Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas
Tidak Ada Data
Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar

Perpustakaan Polman Bandung
  • Informasi
  • Layanan
  • Pustakawan
  • Area Anggota

Tentang Kami

As a complete Library Management System, SLiMS (Senayan Library Management System) has many features that will help libraries and librarians to do their job easily and quickly. Follow this link to show some features provided by SLiMS.

Cari

masukkan satu atau lebih kata kunci dari judul, pengarang, atau subjek

Donasi untuk SLiMS Kontribusi untuk SLiMS?

© 2025 — Senayan Developer Community

Ditenagai oleh SLiMS
Pilih subjek yang menarik bagi Anda
  • Karya Umum
  • Filsafat
  • Agama
  • Ilmu-ilmu Sosial
  • Bahasa
  • Ilmu-ilmu Murni
  • Ilmu-ilmu Terapan
  • Kesenian, Hiburan, dan Olahraga
  • Kesusastraan
  • Geografi dan Sejarah
Icons made by Freepik from www.flaticon.com
Pencarian Spesifik
Kemana ingin Anda bagikan?