VCD
Prototype Alat Metal Evaporator Physical Vapour Deposition (PVD) Untuk Menghasilkan Lapisan Film Tipis Alumunium (AI) Pada Substrat Kaca
Lapisan film tipis banyak digunakan untuk berbagai hal seperti meningkatkan
kinerja benda dengan memberikan sifat-sifat baru pada permukaanya. Salah satu
material yang bisa digunakan sebagai material pelapis adalah aluminium.
Politeknik Manufaktur Bandung bekerjasama dengan Insistut Teknologi Bandung
berencana mengembangkan prototype alat metal evaporator melalui tugas akhir ini.
Salah satu faktor yang penting dari kualitas lapisan film tipis logam yang baik
adalah kinerja alat metal evaporator itu sendiri, termasuk kemampuan alat dalam
menghasilkan uap logam dari aluminium pada substrat kaca. Untuk mengetahui
keberhasian proses pengendapan atau deposisi material pelapis pada material
substrat maka diperlukan pengujian pada alat metal evaporator yang akan dibuat
yang kemudian akan di karakterisasi morfologi menggunakan scanned electron
microscope. Ukuran grain lapisan film tipis aluminium yang terbentuk masih
berukuran mikro dan beragam mulai dari 7,44 hingga 24,8 μm sehingga kekuatan
lapisan film tipis yang terbentuk kurang baik. Analisis komposisi menggunakan
Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) menyoroti variasi dalam komposisi unsurunsur dalam lapisan film tipis aluminium pada ketiga substrat kaca. Perbandingan
antara berbagai area pengukuran pada berbagai sampel mengindikasikan variasi
yang signifikan dalam persentase berat oksigen, aluminium, dan tungsten. Hasil
lapisan film tipis juga belum konsisten walaupun menggunakan parameter
pengujian yang sama, hal ini diakibatkan oleh sistem pemanas yang hanya mampu
memanaskan dengan range suhu sebesar 50-340°C pada kondisi tidak vakum.
Kata Kunci: Metal Evaporation, Lapisan Film Tipis Aluminium, Nanomaterial
Tidak tersedia versi lain