Computer File
Uji Fungsi Mesin Metal Thermal Evaporator Physical Vapour Deposition (PVD) Untuk Efektifitas Lapisan Film Tipis Alumunium (AI) Pada Substrat Kaca
Lapisan film tipis banyak digunakan untuk berbagai keperluan seperti
meningkatkan kinerja benda dengan memberikan sifat-sifat baru pada
permukaannya. Salah satu material yang dapat digunakan sebagai bahan pelapisan
adalah aluminium. Politeknik Manufaktur Bandung bekerja sama dengan Institut
Teknologi Bandung mengembangkan teknologi mesin metal thermal evaporator
melalui tugas akhir ini. Salah satu faktor penting dari kualitas lapisan film tipis
logam yang baik adalah kinerja mesin metal evaporator itu sendiri, termasuk
kemampuan alat dalam menghasilkan uap logam dari aluminium dan tembaga pada
substrat kaca. Untuk mengetahui keberhasilan proses pengendapan atau deposisi
bahan pelapis pada material substrat, perlu dilakukan pengujian pada mesin metal
evaporator yang dibuat, kemudian akan dilakukan karakterisasi morfologi dan
ketebalan lapisan atau coating menggunakan scanning electron microscope.
Ukuran butiran grain lapisan film tipis aluminium yang terbentuk masih berukuran
mikro dan bervariasi mulai dari 293 nm hingga 780 nm, sehingga ukuran butiran
grain pada lapisan film tipis yang beragam dengan morfologi yang berbeda-beda.
Analisis dengan pendekatan, yaitu Desain Eksperimen menggunakan metode
Taguchi, digunakan untuk merancang dan menganalisis suatu eksperimen. Hasil
lapisan film tipis belum konsisten meskipun menggunakan parameter pengujian
yang sama, hal ini disebabkan oleh sistem pemanas yang hanya mampu
memanaskan dengan rentang arus 40-50 Ampere pada saat kondisi vakum.
Kata Kunci: Metal Evaporation, Lapisan Film Tipis Aluminium, Nanomaterial,
Teknologi Pelapisan Material, PVD
Tidak tersedia versi lain